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◎ Accexp 顯微鏡LED曝光系統(tǒng)是不需要使用光罩就可以完成光刻的 Pattern 投影式光刻設(shè)備。
◎ 使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀、即可把解像度數(shù) μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,進(jìn)行光刻。
◎ Pattern 可以透過專有軟件自由編輯，并且將制作完成的圖形進(jìn)行保存。
◎ 將多種大小,形狀以及層狀在大氣環(huán)境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機(jī)價(jià)格來的便宜,方便性高.使用時(shí)也不需要制作Pattern Mask。
◎ 使用金屬顯微鏡和 LED 光源 DLP 投影儀、即可把解像度數(shù) μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,進(jìn)行光刻。
◎ Pattern 可以透過專有軟件自由編輯，并且將制作完成的圖形進(jìn)行保存。
◎ 將多種大小,形狀以及層狀在大氣環(huán)境下形成電極在單晶薄膜上,比起電子束曝光機(jī)價(jià)格來的便宜,方便性高.使用時(shí)也不需要制作Pattern Mask。
Accexp 顯微鏡LED曝光系統(tǒng)用途
- 薄膜 FET 以及 Hole 效果量測(cè)用試料的電極形成
- 從石墨烯・鉬礦石取出薄片,進(jìn)行礦石特性評(píng)價(jià)的電極形成
- 面向研究開發(fā)方向的模式形成
Accexp 顯微鏡LED曝光系統(tǒng)特點(diǎn)
- 因?yàn)槭秋@微鏡和 DLP 的組合,所以會(huì)比目前市場(chǎng)銷售的其他曝光系統(tǒng)便宜
- 用對(duì)物鏡頭的倍率,可以從微細(xì)模式到廣范圍的一次全部曝光
- 可安裝在所有的顯微鏡上（根據(jù)顯微鏡的規(guī)格要求）
- 可制作解像度 μｍ等級(jí)的形狀
- 光刻范圍：物鏡 5X：約 1.85mm×1.15mm
- 物鏡 100X：約 90μｍ×60μｍ
※曝光范圍為參考值
如果您對(duì)Accexp 顯微鏡LED曝光系統(tǒng)有興趣，歡迎致電長(zhǎng)沙艾克賽普儀器設(shè)備有限公司：0731-84284278，我們的工程師將為你提供最佳的測(cè)試方案。Accexp是一家專注于儀器工控設(shè)備、測(cè)試方案系統(tǒng)集成的科技企業(yè)。作為專業(yè)的儀器儀表公司及測(cè)控集成ATE提供商，多年來堅(jiān)持自主研發(fā)創(chuàng)新，結(jié)合引進(jìn)代理各大知名品牌的優(yōu)質(zhì)儀器設(shè)備，致力于提供更科學(xué)智能的軟硬件測(cè)試方案。