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麥克儀器推出NanoPlus納米粒度與Zeta電位分析儀
2012-07-10
麥克儀器納米粒度與Zeta電位分析儀NanoPlus是一款新型的、具有極寬測(cè)試范圍的多用途分析測(cè)量?jī)x器，它采用光子相關(guān)光譜法、電泳光散射以及最新的FST技術(shù)來(lái)分析納米粒度和zeta電位，并可測(cè)定固體以及高濃度懸浮液的zeta電位，符合數(shù)個(gè)ISO標(biāo)準(zhǔn)。該儀器采用了高靈敏度測(cè)量技術(shù)，可滿足濃度從0.1ppm到40%樣品的可粒度(從0.6nm到10mm)與zeta電位測(cè)量的要求。
產(chǎn)品應(yīng)用：
半導(dǎo)體
研究半導(dǎo)體晶體表面殘留雜質(zhì)與磨蝕劑、添加劑和晶片表面之間的相互影響的凈化機(jī)制。
醫(yī)藥和食品行業(yè)
乳劑的分散和凝聚的模擬控制研究(如食品、香水、藥品和化妝品)，蛋白質(zhì)功能研究，核糖體分散和凝聚控制研究，表面活性劑功能研究(微囊)。
陶瓷和顏料工業(yè)
表面重整控制研究、分散和凝聚陶瓷(矽土、氧化鋁、二氧化鈦等)和無(wú)機(jī)溶膠的研究，顏料的分散和凝聚的控制研究，浮礦收集器的吸附研究。
聚合物和化工領(lǐng)域
乳劑(涂料和粘合劑)的分散和凝聚控制研究，乳膠表面重整控制(藥品和工業(yè)用途)。電解聚合物(聚苯乙烯磺酸鈉、多羧酸等)功能研究，控制造紙和生產(chǎn)紙漿過(guò)程研究，紙漿添加劑研究。
產(chǎn)品應(yīng)用：
半導(dǎo)體
研究半導(dǎo)體晶體表面殘留雜質(zhì)與磨蝕劑、添加劑和晶片表面之間的相互影響的凈化機(jī)制。
醫(yī)藥和食品行業(yè)
乳劑的分散和凝聚的模擬控制研究(如食品、香水、藥品和化妝品)，蛋白質(zhì)功能研究，核糖體分散和凝聚控制研究，表面活性劑功能研究(微囊)。
陶瓷和顏料工業(yè)
表面重整控制研究、分散和凝聚陶瓷(矽土、氧化鋁、二氧化鈦等)和無(wú)機(jī)溶膠的研究，顏料的分散和凝聚的控制研究，浮礦收集器的吸附研究。
聚合物和化工領(lǐng)域
乳劑(涂料和粘合劑)的分散和凝聚控制研究，乳膠表面重整控制(藥品和工業(yè)用途)。電解聚合物(聚苯乙烯磺酸鈉、多羧酸等)功能研究，控制造紙和生產(chǎn)紙漿過(guò)程研究，紙漿添加劑研究。
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