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精密測(cè)試技術(shù)展望

2012-12-26

先進(jìn)技術(shù)的發(fā)展日新月異,精密測(cè)試技術(shù)應(yīng)該適應(yīng)這種發(fā)展。精密測(cè)試技術(shù)在機(jī)械學(xué)科中的作用是為先進(jìn)制造業(yè)服務(wù),擔(dān)負(fù)起質(zhì)量技術(shù)保證的重任。這就要求首先要以提高產(chǎn)品的質(zhì)量為出發(fā)點(diǎn),這也是要達(dá)到的最重要的目的。其次是精密測(cè)試技術(shù)要提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效益。因此,檢測(cè)方法要能適應(yīng)快速發(fā)展生產(chǎn)的要求,不能單純?yōu)榱藱z測(cè)而檢測(cè),更不能因?yàn)闄z測(cè)的要求而影響生產(chǎn)的效益,從更積極的角度出發(fā),應(yīng)該是由于精密測(cè)試技術(shù)的良好服務(wù)從而促進(jìn)生產(chǎn)能力的提高。根據(jù)先進(jìn)制造技術(shù)發(fā)展的要求以及精密測(cè)試技術(shù)自身的發(fā)展規(guī)律,不斷拓展著新的測(cè)量原理和測(cè)試方法,以及測(cè)試信息處理技術(shù),就機(jī)械學(xué)科而言,預(yù)計(jì)以下幾個(gè)方面需要發(fā)展。

非接觸測(cè)試技術(shù)很多,特別值得一提的是視覺測(cè)試技術(shù)?,F(xiàn)代視覺理論和技術(shù)的發(fā)展,不僅在于模擬人眼能完成的功能,更重要的是它能完成人眼所不能勝任的工作,所以視覺技術(shù)作為當(dāng)今最新技術(shù),在電子、光學(xué)和計(jì)算機(jī)等技術(shù)不斷成熟和完善的基礎(chǔ)上得到迅速發(fā)展。視覺測(cè)試技術(shù)是建立在計(jì)算機(jī)視覺研究基礎(chǔ)上的一門新興測(cè)試技術(shù)。與計(jì)算機(jī)視覺研究的視覺模式識(shí)別、視覺理解等內(nèi)容不同,視覺測(cè)試技術(shù)重點(diǎn)研究物體的幾何尺寸及物體的位置測(cè)量,如轎車白車身三維尺寸的測(cè)量、模具等三維面形的快速測(cè)量、大型工件同軸度測(cè)量、共面性測(cè)量等。它可以廣泛應(yīng)用于在線測(cè)量、逆向工程等主動(dòng)、實(shí)時(shí)測(cè)量過程。視覺測(cè)試技術(shù)在國外發(fā)展很快,早在20世紀(jì)80年代,美國國家標(biāo)準(zhǔn)局就預(yù)計(jì),檢測(cè)任務(wù)的90%將由視覺測(cè)試系統(tǒng)來完成。美國在80年代就有100多家公司躋身于視覺測(cè)試系統(tǒng)的經(jīng)營市場(chǎng),可見視覺測(cè)試系統(tǒng)確實(shí)很有前途。在1999年10月的北京國際機(jī)床博覽會(huì)上已見到國外利用視覺檢測(cè)技術(shù)研制的儀器,如流動(dòng)式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)、高速高精度數(shù)字化掃描系統(tǒng)、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)等先進(jìn)儀器
 

所謂兩個(gè)極端就是指相對(duì)于現(xiàn)在測(cè)量尺寸的大尺寸和小尺寸。通常尺寸的測(cè)量已被廣為注意,也開發(fā)了多種多樣的測(cè)試方法。近年來,由于國民經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展和迫切需要,使得很多方面的生產(chǎn)和工程中測(cè)試的要求超過了我們所能測(cè)試的范圍,如飛機(jī)外形的測(cè)量、大型機(jī)械關(guān)鍵部件測(cè)量、高層建筑電梯導(dǎo)軌的準(zhǔn)直測(cè)量、油罐車的現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)等都要求能進(jìn)行大尺寸測(cè)量;微電子技術(shù)、生物技術(shù)的快速發(fā)展,探索物質(zhì)微觀世界的需求,測(cè)量精度的不斷提高,又要求進(jìn)行微米、納米測(cè)試。

 

 實(shí)現(xiàn)各種溯源的要求

(1)自標(biāo)定、自校準(zhǔn) 高精度的測(cè)量要求高精度的溯源,很多情況下難以找到滿足精度要求的儀器,重要的原因是溯源制約著測(cè)量精度的發(fā)展,在一些情況下則可利用測(cè)量?jī)x器的標(biāo)定和虛擬測(cè)量方法,解決溯源問題。

(2)現(xiàn)場(chǎng)直接標(biāo)定 越來越多的測(cè)量?jī)x器要求現(xiàn)場(chǎng)直接標(biāo)定,很多還是三維的空間標(biāo)定,發(fā)展現(xiàn)場(chǎng)標(biāo)定技術(shù)和儀器是完成這些標(biāo)定的關(guān)鍵。

(3)納米溯源 納米測(cè)試的溯源也是個(gè)重要的問題。國外已有美國NIST、德國PTB、日本NRIM研究硅(220)晶體的晶面間距準(zhǔn)確尺寸,元素晶格尺寸在恒溫下具有很好的穩(wěn)定性,可以用來建立納米溯源基準(zhǔn)。

來源 電能質(zhì)量分析儀  http://www.91zenqing.cn/

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