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布魯克Bruker MATRIX-F II FT-NIR 過(guò)程光譜儀
名稱:光譜儀
品牌:
型號(hào):
簡(jiǎn)介:如今,光譜分析已成為一項(xiàng)非常重要的在線過(guò)程監(jiān)測(cè)與優(yōu)化技術(shù)。由光纖連接的探頭可以直接監(jiān)控生產(chǎn)過(guò)程,并且不存在時(shí)間延遲。MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過(guò)程反應(yīng)器和管道中直接進(jìn)行測(cè)量,讓您更好地理解和控制生產(chǎn)過(guò)程。其創(chuàng)新性技術(shù)提供...
如今,光譜分析已成為一項(xiàng)非常重要的在線過(guò)程監(jiān)測(cè)與優(yōu)化技術(shù)。由光纖連接的探頭可以直接監(jiān)控生產(chǎn)過(guò)程,并且不存在時(shí)間延遲。
MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過(guò)程反應(yīng)器和管道中直接進(jìn)行測(cè)量,讓您更好地理解和控制生產(chǎn)過(guò)程。其創(chuàng)新性技術(shù)提供了一致的高質(zhì)量結(jié)果、縮短了停機(jī)時(shí)間,并實(shí)現(xiàn)了方法的直接轉(zhuǎn)移。布魯克生產(chǎn)的所有過(guò)程光譜儀都具有堅(jiān)固性、長(zhǎng)期穩(wěn)定性和維護(hù)成本低的特點(diǎn)。
數(shù)千臺(tái)在線光譜儀已經(jīng)安裝和使用于化工、石化、聚合物和制藥生產(chǎn)過(guò)程以及食品和飼料制造領(lǐng)域,是我們過(guò)程控制豐富經(jīng)驗(yàn)的有力證明。
如今,許多制造商不僅致力于生產(chǎn)具有最佳品質(zhì)的成品,還希望通過(guò)將實(shí)驗(yàn)室分析技術(shù)應(yīng)用于工廠,來(lái)改進(jìn)生產(chǎn)效率。通過(guò)加大對(duì)生產(chǎn)過(guò)程的監(jiān)控,制造商將能優(yōu)化物料利用,減少甚至消除不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生,從而最終避免造成再加工和廢棄處理成本。
傅立葉近紅外分析技術(shù)的實(shí)時(shí)在線監(jiān)控的優(yōu)勢(shì)已眾所周知。然而,傳統(tǒng)的光譜儀只能安裝在靠近監(jiān)控生產(chǎn)線的地方,這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環(huán)境中。而且,測(cè)量點(diǎn)有時(shí)很難接近,甚至是防爆等危險(xiǎn)區(qū)。
通過(guò)利用光纖技術(shù),MATRIX-F II 主機(jī)可與實(shí)測(cè)點(diǎn)相距數(shù)百米,將探頭直接安裝在采樣點(diǎn),大大簡(jiǎn)化了工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試的難度。此外,當(dāng)環(huán)境特別惡劣時(shí)可將主機(jī)置于帶空調(diào)的工業(yè)小屋內(nèi),這樣可以消除極端溫度影響,進(jìn)一步優(yōu)化光譜儀的性能,還可以保護(hù) MATRIX-F II,防止其遭受過(guò)度污垢和灰塵。
常見(jiàn)的過(guò)程控制包括監(jiān)測(cè)化學(xué)反應(yīng)以及中間產(chǎn)品和成品的質(zhì)量:
直接監(jiān)測(cè)生產(chǎn)反應(yīng)器和管道中樣品
遠(yuǎn)距離測(cè)量
加深過(guò)程理解和控制
用于測(cè)定不同行業(yè)混合過(guò)程均勻性、化學(xué)品組分濃度和聚合過(guò)程狀態(tài)的理想工具
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MATRIX-F II 是目前唯一的只用一臺(tái)儀器就可對(duì)物料進(jìn)行接觸式測(cè)量和非接觸式測(cè)量的光譜儀。有不同的測(cè)量附件可供使用:
光纖探頭:可根據(jù)需要配置漫反射、透反射或不同光程長(zhǎng)度的液體透射探頭,以及流通池或其他試驗(yàn)性裝置。還可根據(jù)物料性質(zhì)選擇配置不同材質(zhì)的探頭,如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷
非接觸式測(cè)量的發(fā)射探頭:非接觸式發(fā)射探頭內(nèi)置鎢燈光源,可以直接照射樣本,并將收集的散射漫反射光通過(guò)光纖傳輸至光譜儀。通過(guò)這種方式,可以進(jìn)行遠(yuǎn)程非接觸式測(cè)量,實(shí)現(xiàn)一系列全新應(yīng)用。它可以提供多達(dá)六個(gè)流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F II duple。
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MATRIX-F II: 經(jīng)典 FT-NIR 光譜儀,通過(guò)光纖連接流通池或浸入式探頭,用于固體或液體分析。
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MATRIX-F II emission: 特別版 MATRIX-F II 光譜儀,通過(guò)光纖連接非接觸式發(fā)射探頭,僅用于非接觸式測(cè)量。
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MATRIX-F II duplex:經(jīng)典 MATRIX- F II 的擴(kuò)展型號(hào),可同時(shí)連接常規(guī)光纖探頭和非接觸式發(fā)射探頭。
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