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牛津儀器 Ionfab 300 IBD離子束沉積
名稱:其他儀器與工具
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簡介:牛津儀器 Ionfab 300 IBD離子束沉積能夠生產(chǎn)具有高質(zhì)量,致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法,并可在同一設(shè)備上實現(xiàn), 因而提高系統(tǒng)的利用率。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項,包括直開式、單襯底傳送模式...
牛津儀器 Ionfab 300 IBD離子束沉積能夠生產(chǎn)具有高質(zhì)量,致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法,并可在同一設(shè)備上實現(xiàn), 因而提高系統(tǒng)的利用率。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項,包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)規(guī)格與實際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào),以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。
多模式功能
能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設(shè)備相集成
單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作
雙束流配置
更低的表面薄膜粗糙度
更佳的批次均勻性和工藝重復(fù)性
準(zhǔn)確終點監(jiān)測 —— SIMS,發(fā)射光譜
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